弊社は、エレクトロニクス分野向けに様々な産業ガスや素材を生産する韓国第3位の財閥企業 SK Materials社の日本法人となります。
日本では、半導体及びディスプレイを製造するお客様に「三フッ化窒素」「モノシラン」「ジクロロシラン」「六フッ化タングステン」を販売しています。
三フッ化窒素（NF3）は 半導体、ディスプレイ、太陽電池の製造工程で使用され、CVD工程後、チャンバー内部の残留物を除去するために使われます。現在、三フッ化窒素はグローバル市場占有率40%で世界1位を占めています。
モノシラン（SiH4）も 半導体、ディスプレイ、太陽電池の製造工程で使用され、Si絶縁膜、Si反射防止膜の形成に使われます。
ジクロロシラン（DCS）は 半導体の製造工程において、窒化膜（SixNy）蒸着時に使われます。
六フッ化タングステン（WF6）は 半導体製造工程でMetal Contact及びGateの形成するために使われます。
弊社の製品はお客様のご要望に応じて3種類のシリンダー、カードル、ISOコンテナの3種類の容器で供給しています。
